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    • 专利摘要:
    一種夾持元件，其經建構及配置以將兩個部件夾持在一起。該夾持元件具有：一對準器，其經建構及配置以使該兩個部件相對於彼此達到一對準位置；一夾持件，其經建構及配置以使該兩個部件維持於該對準位置；一斷開件，其經建構及配置以導引該兩個部件離開該對準位置而到達一斷開位置；及一致動器，其經建構及配置以將一電流轉換成動能。
    公开号:TW201300969A
    申请号:TW101119007
    申请日:2012-05-28
    公开日:2013-01-01
    发明作者:Robertus Wilhelmus Veltman；Maarten Kees Jan Boon；Dennis Jozef Maria Paulussen
    申请人:Asml Netherlands Bv；
    IPC主号:G03F7-00
    专利说明:
    夾持元件、總成及微影投影裝置
    本發明係關於一種夾持元件、一種包括此夾持元件之總成，及一種包括此總成之微影投影裝置。
    微影投影裝置為將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)之機器。微影投影裝置可用於(例如)積體電路(IC)之製造中。在彼情況下，圖案化元件(其或者被稱作光罩或比例光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上之電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包含晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒)上。通常經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上而進行圖案之轉印。一般而言，單一基板將含有經順次地圖案化之鄰近目標部分之網路。
    微影被廣泛認為IC及其他元件及/或結構之製造時之關鍵步驟中的一者。然而，隨著使用微影所製造之特徵之尺寸變得愈來愈小，微影正變為用於使能夠製造小型IC或其他元件及/或結構之更具決定性之因素。
    圖案印刷極限之理論估計可藉由瑞立(Rayleigh)解析度準則給出，如方程式(1)所示： 其中λ為所使用之輻射之波長，NA為用以印刷圖案之投影系統之數值孔徑，k1為程序相依調整因數(亦被稱為瑞立常數)，且CD為經印刷特徵之特徵大小(或臨界尺寸)。自方程式(1)可見，可以三種方式來獲得特徵之最小可印刷大小之縮減：藉由縮短曝光波長λ、藉由增加數值孔徑NA，或藉由減低k1之值。
    為了縮短曝光波長且因此縮減最小可印刷大小，已提議使用極紫外線(EUV)輻射。EUV輻射為具有在5奈米至20奈米之範圍內(例如，在13奈米至14奈米之範圍內)之波長的電磁輻射。已進一步提議可使用具有小於10奈米(例如，在5奈米至10奈米之範圍內(諸如，6.7奈米或6.8奈米))之波長的EUV輻射。此輻射被稱為極紫外線輻射或軟x射線輻射。可能之源包括(例如)雷射產生電漿源、放電電漿源，或基於藉由電子儲存環提供之同步加速器輻射之源。
    可使用電漿來產生EUV輻射。經建構以產生EUV輻射之輻射系統可包括用於激發燃料以提供電漿之雷射，及用於含有電漿之源收集器裝置。
    可(例如)藉由將雷射光束引導於燃料(諸如，合適材料(例如，錫)之粒子，或合適氣體或蒸汽(諸如，Xe氣體或Li蒸汽)之串流)處來創製電漿。所得電漿發射輻射(例如，EUV輻射)，輻射係使用輻射收集器予以收集。輻射收集器可為正入射輻射鏡面，其接收輻射且將輻射聚焦成光束。源收集器裝置可包括經配置以提供真空環境來支援電漿之圍封結構或腔室。此輻射系統通常被稱為雷射產生電漿(LPP)源。
    或者，可藉由將燃料液體之小滴注入於電場(例如，在陽極與陰極之間)中來創製電漿。當小滴處於預定位置時，其被雷射照射且蒸發。隨後，在陽極與陰極之間發生放電，從而創製發射EUV輻射之電漿。
    通常，經建構以產生EUV輻射之輻射系統係與微影投影裝置分離地被製造。此意謂在可使用微影投影裝置之前需要使輻射系統與微影投影裝置對準及連接。
    其需要大量的空間及電子件來手動地使輻射系統與微影投影裝置彼此對準及連接。歸因於存在輻射系統及/或微影投影裝置之其他部件，可能會不能得到此空間。
    需要限制涉及輻射系統與微影投影裝置之對準及連接之電子件的量。
    本發明之一態樣係提供一種夾持元件，該夾持元件經建構及配置以將兩個部件夾持在一起，該夾持元件包括：一對準機構或對準器，其經建構及配置以使該兩個部件相對於彼此達到一對準位置；一夾持機構或夾持件，其經建構及配置以使該兩個部件維持於該對準位置；一斷開機構或斷開件，其經建構及配置以導引該兩個部件離開該對準位置而到達一斷開位置；及一致動器，其經建構及配置以將一電流轉換成動能，其中該對準機構(對準器)、該夾持機構(夾持件)及該斷開機構(斷開件)經建構及配置以藉由該致動器驅動。
    本發明之一另外態樣係提供一種夾持元件，該夾持元件經建構及配置以將兩個部件夾持在一起，該夾持元件包括：一對準機構或對準器，其經建構及配置以使該兩個部件相對於彼此達到一對準位置；一夾持機構或夾持件，其經建構及配置以使該兩個部件維持於該對準位置；一斷開機構或斷開件，其經建構及配置以導引該兩個部件離開與該夾持機構一起工作之該對準位置而到達一斷開位置；及一致動器，其經建構及配置以將一電流轉換成動能，其中該對準機構(對準器)、該夾持機構(夾持件)及該斷開機構(斷開件)經建構及配置以藉由該致動器驅動。
    該夾持元件可包含於一種總成中，該總成包括一照明系統及一輻射源，其中該夾持元件經建構及配置以將該照明器系統與該輻射源夾持在一起。該總成可包含於一種微影投影裝置中。
    現在將參看隨附示意性圖式而僅藉由實例來描述本發明之實施例，在該等圖式中，對應元件符號指示對應部件。
    圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的包括源收集器裝置SO之微影投影裝置100。該裝置包含：照明系統(照明器)IL，其經組態以調節輻射光束B(例如，EUV輻射)；支撐結構(例如，光罩台)MT，其經建構以支撐圖案化元件(例如，光罩或比例光罩)MA，且連接至經組態以準確地定位該圖案化元件之第一定位器PM；基板台(例如，晶圓台)WT，其經建構以固持基板(例如，抗蝕劑塗佈晶圓)W，且連接至經組態以準確地定位該基板之第二定位器PW；及投影系統(例如，反射投影系統)PS，其經組態以將藉由圖案化元件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C(例如，包含一或多個晶粒)上。
    照明系統可包括用於引導、塑形或控制輻射的各種類型之光學組件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。
    支撐結構MT以取決於圖案化元件MA之定向、微影投影裝置之設計及其他條件(諸如，圖案化元件是否被固持於真空環境中)的方式來固持該圖案化元件。支撐結構可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術以固持圖案化元件。支撐結構可為(例如)框架或台，其可根據需要而固定或可移動。支撐結構可確保圖案化元件(例如)相對於投影系統處於所要位置。
    術語「圖案化元件」應被廣泛地解釋為指代可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板之目標部分中創製圖案的任何元件。被賦予至輻射光束之圖案可對應於目標部分中所創製之元件(諸如，積體電路)中之特定功能層。
    圖案化元件可為透射的或反射的。圖案化元件之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。光罩在微影中為吾人所熟知，且包括諸如二元、交變相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射入射輻射光束。傾斜鏡面在藉由鏡面矩陣反射之輻射光束中賦予圖案。
    類似於照明系統，投影系統可包括適於所使用之曝光輻射或適於諸如真空之使用之其他因素的各種類型之光學組件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。可能需要將真空用於EUV輻射，此係因為其他氣體可能吸收過多輻射。因此，可憑藉真空壁及真空泵而將真空環境提供至整個光束路徑。
    如此處所描繪，裝置為反射類型(例如，使用反射光罩)。
    微影投影裝置可為具有兩個(雙載物台)或兩個以上基板台(及/或兩個或兩個以上光罩台)之類型。在此等「多載物台」機器中，可並行地使用額外台，或可在一或多個台上進行預備步驟，同時將一或多個其他台用於曝光。
    參看圖1，照明器IL自源收集器裝置SO接收極紫外線輻射光束。用以產生EUV光之方法包括(但未必限於)用在EUV範圍內之一或多種發射譜線將具有至少一元素(例如，氙、鋰或錫)之材料轉換成電漿狀態。在一種此類方法(常常被稱為雷射產生電漿「LPP」)中，可藉由用雷射光束來輻照燃料(諸如，具有所需譜線發射元素之材料小滴、串流或叢集)而產生所需電漿。源收集器裝置SO可為包括雷射(圖1中未繪示)之EUV輻射系統之部件，該雷射用於提供激發燃料之雷射光束。所得電漿發射輸出輻射(例如，EUV輻射)，輸出輻射係使用安置於源收集器裝置中之輻射收集器予以收集。舉例而言，當使用CO2雷射以提供用於燃料激發之雷射光束時，雷射及源收集器裝置可為分離實體。
    在此等狀況下，不認為雷射形成微影裝置之部件，且輻射光束係憑藉包含(例如)合適引導鏡面及/或光束擴展器之光束遞送系統而自雷射傳遞至源收集器裝置。在其他狀況下，舉例而言，當源為放電產生電漿EUV產生器(常常被稱為DPP源)時，源可為源收集器裝置之整體部件。
    照明器IL可包含用於調整輻射光束之角強度分佈之調整器。通常，可調整照明器之光瞳平面中之強度分佈的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部及σ內部)。另外，照明器IL可包含各種其他組件，諸如，琢面化場鏡面元件及琢面化光瞳鏡面元件。照明器可用以調節輻射光束，以在其橫截面中具有所要均一性及強度分佈。
    輻射光束B入射於被固持於支撐結構(例如，光罩台)MT上之圖案化元件(例如，光罩)MA上，且係藉由該圖案化元件而圖案化。在自圖案化元件(例如，光罩)MA反射之後，輻射光束B傳遞通過投影系統PS，投影系統PS將該光束聚焦至基板W之目標部分C上。憑藉第二定位器PW及位置感測器PS2(例如，干涉量測元件、線性編碼器或電容性感測器)，可準確地移動基板台WT，例如，以便使不同目標部分C定位於輻射光束B之路徑中。相似地，第一定位器PM及另一位置感測器PS1可用以相對於輻射光束B之路徑來準確地定位圖案化元件(例如，光罩)MA。可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準圖案化元件(例如，光罩)MA及基板W。
    所描繪裝置可用於以下模式中至少一者中：
    1.在步進模式中，在將被賦予至輻射光束之整個圖案一次性投影至目標部分C上時，使支撐結構(例如，光罩台)MT及基板台WT保持基本上靜止(亦即，單次靜態曝光)。接著，使基板台WT在X及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分C。
    2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，同步地掃描支撐結構(例如，光罩台)MT及基板台WT(亦即，單次動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT相對於支撐結構(例如，光罩台)MT之速度及方向。
    3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，使支撐結構(例如，光罩台)MT保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化元件，且移動或掃描基板台WT。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源，且在基板台WT之每一移動之後或在一掃描期間之順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化元件。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化元件(諸如，上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列)之無光罩微影。
    亦可使用對上文所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同之使用模式。
    圖2更詳細地展示裝置100，其包括源收集器裝置SO、照明系統IL及投影系統PS。源收集器裝置SO經建構及配置成使得可使真空環境維持於源收集器裝置SO之圍封結構220中。可藉由放電產生電漿源形成EUV輻射發射電漿210。可藉由氣體或蒸汽(例如，Xe氣體、Li蒸汽或Sn蒸汽)產生EUV輻射，其中創製極熱電漿210以發射在電磁光譜之EUV範圍內之輻射。藉由(例如)造成至少部分離子化電漿之放電來創製極熱電漿210。為了有效率地產生輻射，可能需要為(例如)10帕斯卡之分壓之Xe、Li、Sn蒸汽或任何其他合適氣體或蒸汽。在一實施例中，提供受激發錫(Sn)電漿以產生EUV輻射。
    藉由熱電漿210發射之輻射係經由定位於源腔室211中之開口中或後方之選用氣體障壁或污染物截留器230(在一些狀況下，亦被稱作污染物障壁或箔片截留器)而自源腔室211傳遞至收集器腔室212中。污染物截留器230可包括通道結構。污染截留器230亦可包括氣體障壁，或氣體障壁與通道結構之組合。如在此項技術中所知，本文進一步所指示之污染物截留器或污染物障壁230至少包括通道結構。
    收集器腔室211可包括可為所謂掠入射收集器之輻射收集器CO。輻射收集器CO具有上游輻射收集器側251及下游輻射收集器側252。橫穿收集器CO之輻射可自光柵光譜濾光器240反射以聚焦於虛擬源點IF中。虛擬源點IF通常被稱作中間焦點，且源收集器裝置經配置成使得中間焦點IF位於圍封結構220中之開口221處或附近。虛擬源點IF為輻射發射電漿210之影像。
    隨後，輻射橫穿照明系統IL，照明系統IL可包括琢面化場鏡面元件22及琢面化光瞳鏡面元件24，琢面化場鏡面元件22及琢面化光瞳鏡面元件24經配置以提供在圖案化元件MA處輻射光束21之所要角分佈，以及在圖案化元件MA處輻射強度之所要均一性。在藉由支撐結構MT固持之圖案化元件MA處輻射光束21之反射後，隨即形成經圖案化光束26，且藉由投影系統PS將經圖案化光束26經由反射器件28、30而成像至藉由晶圓載物台或基板台WT固持之基板W上。
    比所示器件多之器件通常可存在於照明光學件單元IL及投影系統PS中。取決於微影投影裝置之類型，可視情況存在光柵光譜濾光器240。另外，可存在比諸圖所示之鏡面多的鏡面，例如，在投影系統PS中可存在比圖2所示之反射器件多1至6個的額外反射器件。
    如圖2所說明，收集器光學件CO被描繪為具有掠入射反射器253、254及255之巢套式收集器，僅僅作為收集器(或收集器鏡面)之實例。掠入射反射器253、254及255經安置成圍繞光軸O軸向地對稱，且此類型之收集器光學件CO係較佳地結合放電產生電漿源(常常被稱為DPP源)予以使用。
    或者，源收集器裝置SO可為如圖3所示之LPP輻射系統之部件。雷射LA經配置以將雷射能量沈積至諸如氙(Xe)、錫(Sn)或鋰(Li)之燃料中，從而創製具有數十電子伏特之電子溫度之高度離子化電漿210。在此等離子之去激發及再結合期間所產生之高能輻射係自電漿發射、藉由近正入射收集器光學件CO收集，且聚焦至圍封結構220中之開口221上。
    圖4至圖6描繪夾持元件301之實施例。夾持元件301包括底板302及兩個致動器304、304'，致動器304、304'經建構及配置以將電能轉換成動能。底板302具備通孔(圖式中未繪示)。底板亦具備對準機構(其可被稱作對準器)，對準機構包括兩個臂306、306'及兩個可旋轉構件(例如，可旋轉對準圓盤308、308')。圓盤308、308'安裝於臂306、306'上。致動器304、304'中每一者可固定至可旋轉圓盤308、308'中之一者。圓盤308、308'各自具有第一邊緣310、310'、第二邊緣312、312'及導引件314、314'，導引件314、314'具有徑向部件314rad、314'rad及切線方向部件314tan、314'tan。致動器304、304'經建構及配置以使圓盤308、308'圍繞第一軸線A、A'旋轉。
    在此實施例中，夾持元件301具有夾持機構(其可被稱作夾持件)，夾持機構包括兩對另外可旋轉圓盤316、316'。此等另外可旋轉圓盤316、316'可偏心地安裝於各別另外臂318、318'上，此意謂旋轉軸線經定位成與另外圓盤316、316'之中心軸線相隔一距離。另外臂318、318'提供於底板302上。該對另外圓盤316可圍繞第二軸線B旋轉，且另一對另外圓盤316'可圍繞另一第二軸線B'旋轉。在此實施例中，第二軸線B、B'實際上平行於各別第一軸線A、A'，但經定位成與各別第一軸線A、A'相隔一距離，從而創製力倍增器，如可在圖5中所見。在此實施例中，夾持機構(夾持件)包括兩個鉸鏈320、320'，鉸鏈320、320'耦接至該對各別另外可旋轉圓盤316、316'。鉸鏈320、320'亦可圍繞各別第二軸線B、B'旋轉，且各自具有裝配至導引件314、314'中之凸輪322、322'。圓盤316、316'中之一或多者可包括內部部件316in、316in'及外部部件316out、316out'，滾筒軸承(圖式中未繪示)可提供於該內部部件與該外部部件之間。
    夾持元件301之此實施例包括斷開機構(其可被稱作斷開件)，斷開機構包括一對提昇臂324、324'，提昇臂324、324'可圍繞各別第三軸線C、C'旋轉地安裝於底板302上。多對另外可旋轉凸輪326、326'提供於斷開機構(斷開件)中，另外可旋轉凸輪326、326'可圍繞各別第二軸線B、B'旋轉，每一對耦接至鉸鏈320、320'中之一者。當凸輪326、326'旋轉至某一位置時，凸輪326、326'將壓住提昇臂324、324'之一部分，從而使提昇臂324、324'之另一部分(圖式中不可見)提昇停置於底板302上之物件328。底板302進一步具有經配置以使提昇臂324、324'維持於非提昇位置之一或多個彈簧330。
    物件328包括一另外板332及一錐形件334。錐形件334具有兩個末端，其中之一個末端者界定通過另外板332之孔(圖式中未繪示)，該孔亦對應於底板302中之孔。理想地，該等孔中之一者或其兩者具備O形環，以便能夠在夾持元件301與物件328於對準位置中夾持在一起時形成緊密密封。另外板332具有四個彈簧，在此實施例中為板片彈簧336、336'，圖4中展示其中兩個彈簧。該物件亦具有對準板338，對準板338具有兩個V形凹槽340、340'，其中每一V形凹槽在此實施例中包括數個萬向滾珠單元(ball transfer unit)341、341'，萬向滾珠單元341、341'在使用時與可旋轉圓盤308、308'之第一邊緣310、310'及第二邊緣312、312'合作，如圖5所說明。
    在此實施例中，透射對準板342、342'固定至物件328，且光源344、344'固定至夾持元件301。可旋轉圓盤308、308'及另外可旋轉圓盤316、316'各自具有小通孔345A、345A'、345B、345B'，來自光源344、344'之光束346、346'可沿著其各別光學路徑通過該等小通孔而傳播至對準板。透射對準板342、342'各自具有白色中心348、348'，白色中心348、348'能透射來自光源344、344'之白色光束346、346'。對準板342、342'進一步具有四個著色區350、350'、352、352'、354、354'、356、356'。此等著色區中每一者主要能透射白色光束346、346'之一種顏色。固定至夾持元件301之各別感測器(圖式中未繪示)位於光束346、346'之光學路徑之下游，該等感測器經建構及配置以偵測四種顏色中哪一者正被對準板342、342'透射或偵測出白色光正被透射。
    取決於已藉由感測器偵測之顏色，物件328可移動成較接近於與夾持元件301至少粗略地對準之位置。一旦夾持元件301與物件粗略地對準，物件328隨即滑動至夾持元件301上。
    圖7至圖10說明圖4至圖6之夾持元件301之實施例的兩種修改。在圖7及圖8中，一或多個發光二極體(LED)358、358'位於各別對準板342、342'附近，且相機360、360'位於各別致動器302附近。在圖7及圖8之實施例中，相機360、360'及LED 358、358'相對於夾持元件301固定，在此狀況下，對準板342、342'相對於物件328固定。然而，或者，對準板342、342'可相對於夾持元件301固定，在此狀況下，相機360、360'及LED 358、358'相對於物件328固定。
    在圖9及圖10中，使用反射對準板342、342'以代替透射對準板。在圖9及圖10之實施例中，相機360、360'及LED 358、358'相對於夾持元件301固定，在此狀況下，對準板342、342'相對於物件328固定。然而，相反情形也許亦可係可能的。
    一旦物件328已滑動至底板302上，可旋轉圓盤308、308'隨即藉由各別致動器304、304'旋轉，從而允許第一邊緣310、310'及第二邊緣312、312'推動萬向滾珠單元340、340'，使得導引物件328朝向對準位置。在將物件328導引至對準位置時，導引件314、314'之切線方向部件314tan、314'tan沿著各別凸輪322、322'而移動。
    一旦已到達對準位置，鉸鏈320、320'之凸輪322、322'隨即將到達導引件314、314'之各別徑向部件314rad、314'rad。可旋轉圓盤308、308'充當至鉸鏈320、320'之凸輪322、322'之載體。因此，在致動器304、304'將可旋轉圓盤旋轉成甚至更遠時，歸因於鉸鏈320、320'可圍繞與軸線A、A'相隔一距離之軸線B、B'旋轉的事實，藉由導引件314、314'之徑向部件314rad、314'rad向內導引凸輪322、322'。另外可旋轉圓盤316、316'與鉸鏈320、320'及鉸鏈320、320'之凸輪322、322'一起旋轉，直至另外可旋轉圓盤316、316'向下按壓板片彈簧336、336'為止。在向下按壓板片彈簧336、336'的同時，致動器通常感受到來自板片彈簧336、336'之阻力，此係因為板片彈簧336、336'對另外可旋轉圓盤316、316'施加反作用力，直至另外可旋轉圓盤316、316'通過藉由特定設計判定之某一無作用點(dead point)為止。在通過此無作用點之後，可旋轉圓盤316、316'將在不借助於致動器304、304'的情況下保持於穩定的夾持位置。
    通常，物件328直接地或間接地連接至照明系統IL，且底板302直接地或間接地連接至源收集器裝置SO或其至少一部件。
    當夾持元件301處於夾持位置時，可在源SO之圍封結構220中及在照明系統IL中創製真空環境。
    當物件328待自夾持元件301斷開時，致動器304、304'在與用以使物件328達到對準位置且隨後使物件328達到夾持位置之方向相反的方向上旋轉。使凸輪326、326'達到其壓住提昇臂324、324'之位置。此情形將造成提昇臂324、324'提昇停置於底板302上之物件328，而該物件之移動空間保持受到另外可旋轉圓盤316、316'限制，從而防止物件328與底板302以不受控制方式離開彼此而「跳躍」。
    儘管在本文中可特定地參考微影投影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文所描述之微影投影裝置可具有其他應用，諸如，製造整合光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭，等等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之內容背景中，可認為本文對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更通用之術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在(例如)塗佈顯影系統(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)、度量衡工具及/或檢測工具中處理本文所提及之基板。適用時，可將本文之揭示內容應用於此等及其他基板處理工具。另外，可將基板處理一次以上，例如，以便創製多層IC，使得本文所使用之術語「基板」亦可指代已經含有多個經處理層之基板。
    儘管上文可特定地參考在光學微影之內容背景中對本發明之實施例之使用，但應瞭解，本發明可用於其他應用(例如，壓印微影)中，且在內容背景允許時不限於光學微影。在壓印微影中，圖案化元件中之構形(topography)界定創製於基板上之圖案。可將圖案化元件之構形壓入被供應至基板之抗蝕劑層中，在基板上，抗蝕劑係藉由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而固化。在抗蝕劑固化之後，將圖案化元件移出抗蝕劑，從而在其中留下圖案。
    術語「透鏡」在內容背景允許時可指代各種類型之光學組件中任一者或其組合，包括折射、反射、磁性、電磁及靜電光學組件。
    雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。舉例而言，本發明可採取如下形式：電腦程式，其含有描述如上文所揭示之方法的機器可讀指令之一或多個序列；或資料儲存媒體(例如，半導體記憶體、磁碟或光碟)，其具有儲存於其中之此電腦程式。以上描述意欲為說明性而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者將顯而易見，可在不脫離下文所闡明之申請專利範圍之範疇的情況下對所描述之本發明進行修改。
    21‧‧‧輻射光束
    22‧‧‧琢面化場鏡面元件
    24‧‧‧琢面化光瞳鏡面元件
    26‧‧‧經圖案化光束
    28‧‧‧反射器件
    30‧‧‧反射器件
    100‧‧‧微影投影裝置
    210‧‧‧極紫外線輻射發射電漿/極熱電漿/高度離子化電漿
    211‧‧‧源腔室
    212‧‧‧收集器腔室
    220‧‧‧圍封結構
    221‧‧‧開口
    230‧‧‧氣體障壁/污染物截留器/污染截留器/污染物障壁
    240‧‧‧光柵光譜濾光器
    251‧‧‧上游輻射收集器側
    252‧‧‧下游輻射收集器側
    253‧‧‧掠入射反射器
    254‧‧‧掠入射反射器
    255‧‧‧掠入射反射器
    301‧‧‧夾持元件
    302‧‧‧底板
    304‧‧‧致動器
    304'‧‧‧致動器
    306‧‧‧臂
    306'‧‧‧臂
    308‧‧‧可旋轉對準圓盤
    308'‧‧‧可旋轉對準圓盤
    310‧‧‧第一邊緣
    310'‧‧‧第一邊緣
    312‧‧‧第二邊緣
    312'‧‧‧第二邊緣
    314‧‧‧導引件
    314'‧‧‧導引件
    314rad‧‧‧徑向部件
    314tan‧‧‧切線方向部件
    314'rad‧‧‧徑向部件
    314'tan‧‧‧切線方向部件
    316‧‧‧另外可旋轉圓盤
    316'‧‧‧另外可旋轉圓盤
    316in‧‧‧內部部件
    316out‧‧‧外部部件
    316in'‧‧‧內部部件
    316out'‧‧‧外部部件
    318‧‧‧臂
    318'‧‧‧臂
    320‧‧‧鉸鏈
    320'‧‧‧鉸鏈
    322‧‧‧凸輪
    322'‧‧‧凸輪
    324‧‧‧提昇臂
    324'‧‧‧提昇臂
    326‧‧‧可旋轉凸輪
    326'‧‧‧可旋轉凸輪
    328‧‧‧物件
    330‧‧‧彈簧
    332‧‧‧另外板
    334‧‧‧錐形件
    336‧‧‧板片彈簧
    336'‧‧‧板片彈簧
    338‧‧‧對準板
    340‧‧‧V形凹槽
    340'‧‧‧V形凹槽
    341‧‧‧萬向滾珠單元
    341'‧‧‧萬向滾珠單元
    342‧‧‧透射對準板(圖4、圖7)/反射對準板(圖9)
    342'‧‧‧透射對準板(圖4、圖6、圖7、圖8)/反射對準板(圖9、圖10)
    344‧‧‧光源
    344'‧‧‧光源
    345A‧‧‧通孔
    345B‧‧‧通孔
    345A'‧‧‧通孔
    345B'‧‧‧通孔
    346‧‧‧光束/白色光束
    346'‧‧‧光束/白色光束
    348‧‧‧白色中心
    348'‧‧‧白色中心
    350‧‧‧著色區
    350'‧‧‧著色區
    352‧‧‧著色區
    352'‧‧‧著色區
    354‧‧‧著色區
    354'‧‧‧著色區
    356‧‧‧著色區
    356'‧‧‧著色區
    358‧‧‧發光二極體(LED)
    358'‧‧‧發光二極體(LED)
    360‧‧‧相機
    360'‧‧‧相機
    B‧‧‧輻射光束
    C‧‧‧目標部分
    CO‧‧‧輻射收集器/近正入射收集器光學件
    IF‧‧‧虛擬源點/中間焦點
    IL‧‧‧照明系統/照明器/照明光學件單元
    LA‧‧‧雷射
    M1‧‧‧光罩對準標記
    M2‧‧‧光罩對準標記
    MA‧‧‧圖案化元件
    MT‧‧‧支撐結構
    O‧‧‧光軸
    P1‧‧‧基板對準標記
    P2‧‧‧基板對準標記
    PM‧‧‧第一定位器
    PS‧‧‧投影系統
    PS1‧‧‧位置感測器
    PS2‧‧‧位置感測器
    PW‧‧‧第二定位器
    SO‧‧‧源收集器裝置
    W‧‧‧基板
    WT‧‧‧基板台
    圖1描繪根據本發明之一實施例的微影投影裝置；圖2為圖1之裝置的更詳細視圖；圖3為圖1之裝置之源收集器裝置之實施例的更詳細視圖；圖4為夾持元件之實施例的透視圖；圖5為圖4之夾持元件的俯視圖；圖6為圖4之夾持元件的側視圖；圖7為圖4至圖6之夾持元件之修改的透視圖；圖8為圖7之夾持元件的側視圖；圖9為圖4至圖6之夾持元件之另一修改的透視圖；及圖10為圖9之夾持元件的側視圖。
    301‧‧‧夾持元件
    302‧‧‧底板
    304‧‧‧致動器
    304'‧‧‧致動器
    306‧‧‧臂
    306'‧‧‧臂
    308‧‧‧可旋轉對準圓盤
    308'‧‧‧可旋轉對準圓盤
    310‧‧‧第一邊緣
    310'‧‧‧第一邊緣
    312‧‧‧第二邊緣
    312'‧‧‧第二邊緣
    314‧‧‧導引件
    314'‧‧‧導引件
    314rad‧‧‧徑向部件
    314'rad‧‧‧徑向部件
    314tan‧‧‧切線方向部件
    314'tan‧‧‧切線方向部件
    316‧‧‧另外可旋轉圓盤
    316'‧‧‧另外可旋轉圓盤
    316in‧‧‧內部部件
    316in'‧‧‧內部部件
    316out‧‧‧外部部件
    316out'‧‧‧外部部件
    318‧‧‧臂
    318'‧‧‧臂
    320‧‧‧鉸鏈
    320'‧‧‧鉸鏈
    322‧‧‧凸輪
    322'‧‧‧凸輪
    324‧‧‧提昇臂
    324'‧‧‧提昇臂
    326‧‧‧可旋轉凸輪
    326'‧‧‧可旋轉凸輪
    328‧‧‧物件
    330‧‧‧彈簧
    332‧‧‧另外板
    334‧‧‧錐形件
    336‧‧‧板片彈簧
    336'‧‧‧板片彈簧
    338‧‧‧對準板
    342‧‧‧透射對準板
    342'‧‧‧透射對準板
    344‧‧‧光源
    344'‧‧‧光源
    345A'‧‧‧通孔
    345B‧‧‧通孔
    345B'‧‧‧通孔
    346‧‧‧光束/白色光束
    346'‧‧‧光束/白色光束
    348‧‧‧白色中心
    348'‧‧‧白色中心
    350‧‧‧著色區
    350'‧‧‧著色區
    352‧‧‧著色區
    352'‧‧‧著色區
    354‧‧‧著色區
    354'‧‧‧著色區
    356‧‧‧著色區
    356'‧‧‧著色區
    权利要求:
    Claims (19)
    [1] 一種夾持元件，其經建構及配置以將兩個部件夾持在一起，該夾持元件包含：一對準器，其經建構及配置以使該兩個部件相對於彼此達到一對準位置；一夾持件，其經建構及配置以使該兩個部件維持於該對準位置；一斷開件，其經建構及配置以導引該兩個部件離開該對準位置而到達一斷開位置；及一致動器，其經建構及配置以將一電流轉換成動能，其中該對準器、該夾持件及該斷開件經建構及配置以藉由該致動器驅動。
    [2] 如請求項1之夾持元件，其中夾持元件經建構以固定至該兩個部件中之一者，其中該對準器包含一可旋轉構件，其中該致動器經建構及配置以旋轉該可旋轉構件，該可旋轉構件具備一突起或一邊緣以與該兩個部件中之另一者之一凹座合作以藉由旋轉該可旋轉構件而使該兩個部件達到一對準位置，或具備一凹座以與該兩個部件中之另一者之一突起合作以藉由旋轉該可旋轉構件而使該兩個部件達到一對準位置。
    [3] 如請求項2之夾持元件，其中該凹座為一凹槽。
    [4] 如請求項3之夾持元件，其中該凹槽為一V形凹槽。
    [5] 如前述請求項中任一項之夾持元件，其中該夾持件包含可偏心地旋轉之一可旋轉元件，該致動器經建構及配置以藉由將該可旋轉元件旋轉至一夾持位置而使該兩個部件壓住彼此。
    [6] 如請求項5之夾持元件，其中該可旋轉元件包含一圓柱塑形構件。
    [7] 如請求項6之夾持元件，其中該可旋轉元件具備可相對於該圓柱塑形構件旋轉之一圓柱塑形外部殼體。
    [8] 如請求項7之夾持元件，其中該可旋轉元件包含在該圓柱塑形構件與該圓柱塑形外部殼體之間的一軸承。
    [9] 如請求項8之夾持元件，其中該軸承為一滾筒軸承。
    [10] 如請求項5之夾持元件，其中夾持件經建構及配置以固定至該兩個部件中之一者，其中該對準器包含一可旋轉構件，其中該致動器經建構及配置以旋轉該可旋轉構件，該可旋轉構件具備一突起以與該兩個部件中之另一者之一凹座合作以藉由旋轉該可旋轉構件而使該兩個部件達到一對準位置，或具備一凹座以與該兩個部件中之另一者之一突起合作以藉由旋轉該可旋轉構件而使該兩個部件達到一對準位置，且其中該可旋轉構件具備一載體，該載體經建構及配置以將該可旋轉元件載運至該夾持位置。
    [11] 如請求項10之夾持元件，其中該可旋轉元件耦接至經配置以旋轉該可旋轉元件之一凸輪，且其中該載體為一凹座，該凹座經建構及配置以卡住該凸輪且使該凸輪達到該可旋轉元件處於該夾持位置之一位置。
    [12] 如請求項5之夾持元件，其中該斷開件包含一提昇構件，該提昇構件經建構及配置以使該兩個部件彼此分離。
    [13] 如請求項12之夾持元件，其中該斷開件包含一制動構件，該制動構件經建構及配置以在該提昇構件使該兩個部件彼此分離時限制該兩個部件之間的分離度。
    [14] 如請求項12之夾持元件，其中該斷開件包含一或多個另外可旋轉元件，該一或多個另外可旋轉元件經建構及配置以推壓該提昇構件，以便使該提昇構件使該兩個部件彼此分離。
    [15] 如請求項14之夾持元件，其中該對準器包含一可旋轉構件，該可旋轉構件具備一突起以與該兩個部件中之一第一部件之一凹座合作以藉由旋轉該可旋轉構件而使該兩個部件達到一對準位置，或具備一凹座以與該兩個部件中之一第一部件之一突起合作以藉由旋轉該可旋轉構件而使該兩個部件達到一對準位置，其中該致動器經建構及配置以旋轉該可旋轉構件，且其中該可旋轉構件具備一載體，該載體經建構及配置以載運該一或多個另外可旋轉元件以推壓該提昇構件，以便使該提昇構件使該兩個部件彼此分離。
    [16] 一種總成，其包含一照明系統、一輻射源，及一如前述請求項中任一項之夾持元件，該夾持元件用以將該照明系統與該輻射源夾持在一起。
    [17] 一種微影投影系統，其包含一如請求項16之總成。
    [18] 一種總成，其包含：一輻射源，其經組態以產生輻射；一照明系統，其經組態以調節該輻射；及一夾持元件，其經建構及配置以將該輻射源與該照明系統夾持在一起，該夾持元件包含：一對準器，其經建構及配置以使該輻射源及該照明系統相對於彼此達到一對準位置；一夾持件，其經建構及配置以使該輻射源及該照明系統維持於該對準位置；一斷開件，其經建構及配置以導引該輻射源及該照明系統離開該對準位置而到達一斷開位置；及一致動器，其經建構及配置以將一電流轉換成動能，其中該對準器、該夾持件及該斷開件經建構及配置以藉由該致動器驅動。
    [19] 一種微影投影系統，其包含：一輻射源，其經組態以產生輻射；一照明系統，其經組態以調節該輻射；及一夾持元件，其經建構及配置以將該輻射源與該照明系統夾持在一起，該夾持元件包含：一對準器，其經建構及配置以使該輻射源及該照明系統相對於彼此達到一對準位置；一夾持件，其經建構及配置以使該輻射源及該照明系統維持於該對準位置；一斷開件，其經建構及配置以導引該輻射源及該照明系統離開該對準位置而到達一斷開位置；及一致動器，其經建構及配置以將一電流轉換成動能，其中該對準器、該夾持件及該斷開件經建構及配置以藉由該致動器驅動；及一投影系統，其經組態以將一經圖案化輻射光束投影至一基板上。
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    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    US201161497348P| true| 2011-06-15|2011-06-15||
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